特許技術の粉体＋液体の連続混合分散システム
特許取得の IKA MHD 2000 (混合-ホモジナイジング-分散) システムは、固体(粉体、顆粒)と液体を混合するためにデザインされました。主に完全連続生産プロセスに使用されます。特に、下記のプロセス上の要求事項が一つでもあれば適しています。
・1パス処理が必要
・1パスで高い固形分濃度(最大80%まで)が必要
・混合後直ちに反応が始まる
・液相が既に高粘度
・ミキシングのエネルギー投入量をできるだけ少なくしなければならない
・固体が顆粒で機械的に破壊及び混合しなければならない
・エアーの混入を最小限にしなければならない
粉体と液体の連続混合及び分散。パテントプロセス。
凝集を防ぎながら、１パスで迅速で均質なミキシング。最大固形分濃度８０％
アプリケーション
LIB用電極材スラリー、MLCC用BaTiO3スラリー、MLCC用Niスラリー、多種金属系スラリー、
カーボンスラリー、炭酸カルシウムスラリー、流動性の良いペースト
| 機 種 |
参考混合物流量（l/h） |
参考粉体流量（l/h） |
モーター容量（kW） |
|---|---|---|---|
| MHD 2000/4 PILOT | 100 | 50 | 4.0 |
| MHD 2000/05 | 700 | 500 | 5.5 |
| MHD 2000/10 | 2,500 | 1,300 | 11 |
| MHD 2000/20 | 7,000 | 2,800 | 22 |
| MHD 2000/30 | 20,000 | 6,200 | 45 |
| MHD 2000/50 | 40,000 | 11,200 | 75 |
＊混合物流量/粉体処理量はあくまで目安であり、性能を保証するものではありません。材料特性、プロセスによって大きく変わります。
